Применение фрактальных методов в экспериментальных и теоретических исследованиях тонкопленочных структур

Abstract

Обсуждены различные аспекты изучения тонкопленочных микроэлектронных структур с точки зрения их фрактальных свойств. Определена степень пригодности для этих целей некоторых известных экспериментальных методов измерения структурных и топографических характеристик твердотельных объектов. Классифицированы способы вычисления фрактальных размерностей поверхностей, выполнена их сравнительная оценка. Проанализированы известные математические методы генерации модельных поверхностей с задаваемой фрактальной размерностью, а также физико-технологические модели формирования и модификации пленочных структур с фрактальными особенностями строения. В каждом из перечисленных аспектов (экспериментальные измерения, способы вычисления размерностей, методы моделирования фрактальных объектов) предложены перспективные направления и задачи дальнейших исследований, выполнение которых существенно облегчит решение проблем управления электрофизическими свойствами пленочных структур в современной микроэлектронике.