Search
Структурные и морфологические особенности высокоэнтропийных сверхтвердых покрытий
View/ Open document files
Author
Date
2023Publisher
БрГТУUDC
538.9+539.23Citation
Структурные и морфологические особенности высокоэнтропийных сверхтвердых покрытий / Е. В. Овчинников [и др.] // Вестник Брестского государственного технического университета. – 2023. – № 2 (131). – С. 80–84. – Библиогр.: с. 84 (7 назв.).Abstract
В статье приведены результаты исследований структуры и физико-механических характеристик вакуумных интерметаллических покрытий, формируемых из магнитоуправляемых потоков многокомпонентной реакционной среды на металлических субстратах, методами атомной силовой и электронной микроскопии, оптической микроскопии, физико-механического анализа. Шероховатость поверхностей вакуумных покрытий, металлических подложек, оценивалась с помощью метода профилометрии. Изучение методами атомно-силовой, оптической микроскопии морфологии поверхностных слоев покрытий TiAlSi (N,C), сформированных на субстратах из различной природы, позволило установить зависимость морфологических параметров покрытий от химического состава подложки.
Annotation in another language
The article presents the results of studies of the structure and physical and mechanical characteristics of vacuum intermetallic coatings formed from magnetically controlled flows of a multicomponent reaction medium on metal substrates using the methods of atomic force and electron microscopy, optical microscopy, and physical and mechanical analysis. The surface roughness of vacuum coatings, metal substrates, was evaluated using the profilometry method. The study of the morphology of the surface layers of TiAlSi (N,C) coatings formed on substrates of different nature by the methods of atomic force and optical microscopy made it possible to establish the dependence of the morphological parameters of the coatings on the chemical composition of the substrate.
Collection
- № 2 (131) 2023 [36]
Это произведение доступно по лицензии Creative Commons «Attribution-NonCommercial» («Атрибуция-Некоммерчески») 4.0 Всемирная.