Search
Исследование свойств плазмохимических упрочняющих тонкоплёночных кремнийсодержащих покрытий и композиции покрытие-подложка, работающих в условиях высоких контактных давлений
View/ Open document files
Author
Date
2023Publisher
БрГТУUDC
621.7Citation
Голозубов, А. Л. Исследование свойств плазмохимических упрочняющих тонкоплёночных кремнийсодержащих покрытий и композиции покрытие-подложка, работающих в условиях высоких контактных давлений / А. Л. Голозубов // Вестник Брестского государственного технического университета. – 2023. – № 2 (131). – С. 69–71. – Библиогр.: с. 71 (2 назв.).Abstract
Упрочнение контактирующих металлических поверхностей, работающих в условиях высоких контактных давлений часто встречающаяся в производстве задача. Высокие контактные давления встречаются при работе штамповой оснастки, в прессовых соединениях, парах трения и т. д. В статье предложено использование технологии осаждения тонкоплёночных кремнийсодержащих покрытий, осаждаемых из дуговой плазмы при атмосферном давлении, что позволяет улучшить эксплуатационные свойства упрочнённых поверхностей. Эффект упрочнения связан с несколькими аспектами: высокие физико-механические свойства, сплошность и низкий коэффициент трения тонкоплёночного кремнийсодержащего покрытия; совместная работа покрытия и приповерхностного слоя подложки.
Annotation in another language
Hardening of contacting metal surfaces operating under conditions of high contact pressures is a common task in production. High contact pressures are encountered during the operation of die equipment, in press joints, friction pairs, etc. The article proposes the use of technology for the deposition of thin-film silicon-containing coatings deposited from arc plasma at atmospheric pressure, which improves the performance properties of hardened surfaces. The hardening effect is associated with several aspects: - high physical and mechanical properties, continuity and low coefficient of friction of a thin-film silicon-containing coating; - joint operation of the coating and the nearsurface layer of the substrate.
Collection
- № 2 (131) 2023 [36]
Это произведение доступно по лицензии Creative Commons «Attribution-NonCommercial» («Атрибуция-Некоммерчески») 4.0 Всемирная.