Свойства легированных пленок нанокристаллического кремния, выращенных на пластиковых подложках методом газофазного химического осаждения

Abstract

В данной работе изложен метод легирования тонких пленок нанокристаллического кремния фосфором и бором с помощью газофазного осаждения кремния, полученного разложением силана на горячей проволоке. В качестве подложки использовались гибкие пластиковые материалы (полиэтилен нафталата и полиамид) и стекло, а температура осаждения не превышала 150 ?C. Изучалось влияние концентрации водорода и легирующих газов, а также толщины пленок на структурные и электрические свойства кремниевых пленок. Значение темновой проводимости p- и n- легированных пленок (?d = 2.8 (Ом*см)-1 и 4.7 (Ом*см)-1, соответственно) выращенных на пластиковых подложках, выше, чем в аналогичных пленках на стеклянной подложке. Кристаллические свойства, энергия активации и темновая проводимость очень тонких пленок (~10-40 нм) p- и n-типа, выращенных при условиях, обеспечивающих рост нанокристаллических пленок с толщиной ? 50 нм, имеют значения, типичные для легированного аморфного кремния.