Поиск по всему репозиторию:

Показать краткое описание

dc.contributor.authorБорздов, А. В.
dc.contributor.authorБорздов, В. М.
dc.contributor.authorБуслюк, Виктор Вячеславович
dc.coverage.spatialСевастопольru_RU
dc.date.accessioned2025-10-14T08:53:23Z
dc.date.available2025-10-14T08:53:23Z
dc.date.issued2015
dc.identifier.citationБорздов, А. В. Моделирование флуктуаций плотности тока в субмикронном кремниевом диоде = Simulation of current density fluctuations in submicron silicon diode / А. В. Борздов, В. М. Борздов, В. В. Буслюк. – Текст : непосредственный // СВЧ-техника и телекоммуникационные технологии (КрыМиКо 2015) = Microwave & telecommunication technology (CriMiCo 2015) : материалы 25-й Международной Крымской конференции, Севастополь, 6–12 сентября 2015 г. : в 2 т. / Оргкомитет КрыМиКо’2015, Крымский научно-технологический центр им. А. С. Попова. – Севастополь, 2015. – Т. 1. – ISBN 978-1-4673-9414-7. – C. 123–124. – Библиография: 7 назв.ru_RU
dc.identifier.urihttps://rep.bstu.by/handle/data/49850
dc.description.abstractПроведено моделирование многочастичным методом Монте-Карло флуктуаций плотности тока в субмикронном кремниевом диоде со структурой n+-n-n+. Изучено влияние процесса ударной ионизации на шумовые характеристики прибора.ru_RU
dc.language.isoruru_RU
dc.titleМоделирование флуктуаций плотности тока в субмикронном кремниевом диодеru_RU
dc.title.alternativeSimulation of current density fluctuations in submicron silicon dioderu_RU
dc.typeНаучный доклад (Working Paper)ru_RU
dc.abstract.alternativeEnsemble Monte Carlo simulation of current density fluctuations in submicron silicon diode with n+-n-n+ structure has been performed. The influence of impact ionization process on the noise characteristics of the device has been studied.ru_RU


Файлы в этом документе

Thumbnail

Данный элемент включен в следующие коллекции

Показать краткое описание